一、TFT LCD行业标准的探讨（论文文献综述）
崔禹[1]（2021）在《多背景环境下TFT-LCD视觉缺陷检测算法研究与应用》文中进行了进一步梳理薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD）凭借其体积小、功耗低和响应速度快等优点在新型显示器行业占据越来越大的市场份额,制造商之间的竞争也变得尤为激烈。因此,提高产品质量和生产效率成为制造商保持优越性的重要因素。然而,TFT-LCD制作过程中缺陷种类较多,采用人工目视检测方法具有稳定性差、耗时长、检测标准难以统一等弊端,而采用同一种检测算法又无法实现单一背景下所有缺陷的有效检测。本文针对TFTLCD制作过程中产生的各种缺陷进行了检测算法设计与研究,设计了一套TFTLCD缺陷视觉检测系统。TFT-LCD显示画面图像的预处理对于TFT-LCD缺陷特征的提取、图像分割、目标检测等技术的实现至关重要,本文对此开展了研究和设计。在保证显示面板表面没有灰尘和其他噪声干扰的情况下,对采集的显示面板画面进行图片均值化、高斯滤波、伽马变换和直方图均衡处理,从而突出图像中的重要信息并改变采集图像的质量。围绕TFT-LCD不同缺陷的特征和检测难点,研究设计了一套多背景下的3类缺陷视觉实时检测方法。通过对6种不同缺陷和检测算法的分析,本文针对line Mura、region Mura、划痕缺陷,采用最大类间方差法（Inter-Class Variance）和形态学运算进行6种纯色背景下的缺陷图像分割和栅格显示背景下的ROI边缘缺陷检测;对于较小的spot Mura,采用Center Net网络进行6种纯色背景下的缺陷检测;对于色彩偏差缺陷,通过划分子区域的灰度值方差和均值来判断32级渐变色显示背景中是否存在色差缺陷。鉴于后期工业的实际应用,通过对课题内容和TFT-LCD人工检测工艺进行分析和研究,搭建了针对显示面板缺陷的视觉检测装置和系统。同时也对工业相机、工业镜头、工业显示平板等硬件设备进行选型。由于实际的工业现场场景较为复杂,往往会导致工业相机采集的TFT-LCD显示面板画面有较多的噪声存在。因此,本文设计了相应的硬件方案来抑制噪声。而且,对工业现场中相机安装位置进行模拟,并设计了工业相机拍摄高度的自动调节装置,以适应不同规格的显示面板。本文的研究结果表明所设计的算法能够较好的实现TFT-LCD缺陷的实时检测,检测效果较传统的检测方法有明显的改善和提升,降低了TFT-LCD缺陷的漏检率,具有更好的适用性和实用价值。
徐正兴[2]（2020）在《TFT LCD亮点缺陷改善研究》文中进行了进一步梳理TFT LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器）是由具双折射性的液晶和具半导体特性的薄膜晶体管元件组成的显示器件。TFT LCD的生产工艺复杂且对制程精度、环境要求高,导致生产成本高,若生产中有不良产生将导致生产出的产品无法销售而造成大量损失。本论文通过科学的分析方法和精密的解析手法,对亮点不良进行分析,确定亮点的发生原因。科学的分析方法主要体现在对不良现象的精准描述,及对不良在面板上的坐标点位聚集性特征采用大数据分析来确定不良可能发生的站点。精密的解析手法体现在采用500倍及以上光学显微镜观察样品上不良的现象,采用电子隧道显微镜、电流电压量测仪、应力量测仪、傅里叶频谱分析仪等高精密设备对样品在微米级或微安培等微观上进行表征,找出亮点发生机理。生产线根据上述方法得出的结论,针对性的进行不良改善,如进行微米级别的微小异物的排查和管控,清洗参数的调整,设备易磨耗零件的重新设计更换等。但完全避免亮点是不可能的,所以针对已经发生亮点的面板在出货之前体检检测出来并进行维修也是有效降低亮点缺陷对产品造成成本损失的有效手段。在成盒制程完成后通过模拟点灯方式将面板点亮的进行画面检测筛选出有亮点不良的产品。通过研究亮点发生的成因,设计实验调整点灯参数,找到可以将亮点有效检测出的方法并应用于实际。亮点维修主要是将发生亮点的像素电极进行暗点化,即将亮点像素电与与阵列公共电极用激光熔接的方式进行导通,使得亮点像素会被阵列公共电极持续通电,与公共电极等电位而液晶不会被驱动,所以保持暗点状态,暗点通常不易被消费者察觉,对显示画面没有影响,所以暗点化是一种非常有效的修补方式。而在实践过程中,亮点的激光修补亦是有成功率的问题。本论文作者通过大量的企业实践总结经验,针对不同发生成因的亮点设计激光修补方法,便于产线操作员作业。同时针对系统性的亮点维修失败,进行真因理清,从机理上分析维修失败原因,实验论证改善方案,从根本上解决维修失败的问题,如成功解决将绿亮点修补成异物暗的问题,修补亮点后成碎亮点的问题,阵列长膜品修补失败的问题。
马丽[3]（2020）在《联盟组合网络特征、组织学习与企业创新能力关系研究》文中指出创新已成为当今社会发展的重要驱动力,也是企业赢得持续竞争优势的关键影响因素。然而,技术迭代速度加快、创造性毁灭和知识爆炸式增长加剧了企业创新的复杂性和不确定性,致使众多企业选择了同时与多个伙伴建立联盟关系,构建起一个以自我为中心的联盟网络——联盟组合,力图达到突破资源约束和降低创新风险,进而持续提升企业创新能力的目的。事实上,联盟组合的创新效应能否实现受多种因素影响,其中联盟组合网络特征对焦点企业创新能力的影响最为复杂和不确定。因此,构建与企业战略和能力以及组织外部环境相适应的联盟组合对于提升企业创新能力显得尤为关键和重要。目前,学界的相关研究虽然勾勒出了联盟组合网络特征给企业创新带来影响的大致轮廓,并在一定程度上刻画了联盟组合节点特征、关系特征和结构特征与企业创新绩效的关系,但是,现有研究鲜有建立联盟组合网络特征的多维分析框架,且联盟组合网络特征影响企业创新能力的过程机制与作用情景也尚缺乏深入的探究和一致的结论,联盟组合网络特征与企业创新能力的动态演化研究也十分匮乏。立足于现实与理论背景,本文确立了“企业应该构建怎样的联盟组合才能有效提升自身创新能力”的研究主题。围绕这一研究主题,本文深入探讨了三个基本问题:一是联盟组合网络特征究竟如何影响企业创新能力;二是企业如何在不同的情景下构建合适的联盟组合来提升创新能力;三是企业如何动态调整联盟组合网络特征以持续地提高创新能力。针对以上研究问题,本文以资源基础理论、社会网络理论、组织学习理论、权变理论和动态能力理论为基础,构建了联盟组合网络“伙伴多样性–联结强度–网络规模”三维特征分析构架,建立了包含组织学习的中介效应模型、环境动态性和技术战略导向的调节效应模型的理论假设,并运用结构方程法、多元层次回归法和案例研究法进行了验证,最终得到以下主要研究结论:（1）联盟组合网络特征通过组织学习影响企业创新能力。本研究运用结构方程建模分析了有关企业的问卷数据,研究结果表明,探索性学习和利用性学习两个中介变量在伙伴多样性与联结强度对企业创新能力的影响中起到了部分中介作用,在网络规模对企业创新能力的影响中起到了完全中介作用,联盟组合网络特征通过影响企业探索性学习和利用性学习进而促进了企业创新能力的提高。（2）环境动态性和技术战略导向在联盟组合网络特征对组织学习的作用机制中发挥调节作用。本研究运用多元层次回归模型分析企业问卷数据的结果表明,环境动态性正向调节联盟组合伙伴多样性、联结强度和企业探索性学习之间的关系,负向调节联盟组合伙伴多样性、网络规模和企业利用性学习之间的关系;技术战略导向正向调节联盟组合伙伴多样性、网络规模和企业探索性学习之间的关系,正向调节联盟组合伙伴多样性、联结强度、网络规模和企业利用性学习之间的关系。（3）组织学习平衡与联盟组合网络特征动态的匹配可以持续提升企业创新能力。本研究运用纵向单案例分析法,以我国新一代信息技术企业的技术追赶为研究背景,分析了京东方科技集团股份有限公司（BOE）在二次创新过程中的技术追赶历程。研究发现,在焦点企业的二次创新过程中,随着企业联盟组合网络特征由小规模、低多样化程度和弱强交替网络向大规模、高多样化程度和二重网络演化,动态调整组织学习平衡模式由间断型平衡向双元型平衡转变,如果能够由此实现长期的组织学习混合平衡,将有利于后发企业实现创新能力的持续提升与有效赶超。通过上述研究工作,本文主要做出了以下理论贡献:（1）揭示了组织学习是联盟组合网络特征影响企业创新能力的关键路径,在一定程度上有效解决了企业如何在联盟组合中提高创新能力的难题。通过揭示联盟组合网络特征通过组织学习影响企业创新能力的过程机制,明晰了组织学习的开展情况是企业从蕴含在联盟组合中的资源中提取创新价值的关键路径。这在一定程度上解决了企业联盟组合的一个重要问题——企业在联盟组合中究竟应该通过何种途径来提高创新能力,进而推动了依托联盟组合开展技术创新的作用机制理论研究的深入,拓展了组织学习理论的研究视角。（2）同时考虑外部环境特性和内部组织特性对联盟组合创新效应发挥的情景作用,对企业根据不同的环境动态性和技术战略导向构建有效的联盟组合网络和组织学习模式有重要的参考价值。环境动态性和技术战略导向对企业联盟组合网络特征影响组织学习的调节效应的明确,为企业根据其外部环境特点和内部技术战略,有效调整联盟组合配置以实现相应的组织学习目标,进而促进技术创新能力的提高提供了一种全面的情景视角,丰富了企业通过联盟组合进行技术创新的理论研究成果。（3）探明了联盟组合网络特征、组织学习和企业创新能力的动态演化规律,为企业长期通过动态调整组织学习平衡模式与联盟组合网络特征匹配以持续提升企业创新能力提供了理论基础。联盟组合中蕴含的资源并不会自动转化成企业的创新能力,只有当企业根据联盟组合网络特征动态地调整其组织学习模式,才能有效获取网络资源中的创新价值,最终为创新能力持续提升提供不竭动力。在我国大部分企业都属于后发企业并以二次创新为主要创新模式的现实背景下,揭示在二次创新的动态过程中,在外部环境和技术战略导向的具体变化情况下,焦点企业的联盟组合网络特征,组织学习模式和创新能力的动态演化规律,将有效指引企业在变化中的外部和内部条件下,根据联盟组合网络特征动态调整组织学习模式,从而持续地推进二次创新演进和创新能力的提高。这使得联盟组合与创新能力关系的研究得以纵向拓展,对联盟组合、组织学习和技术创新理论做出有益的补充。
李振弘[4]（2020）在《TFT-LCD行业ITO和Cu/Mo薄膜刻蚀液性能研究》文中指出薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）阵列制作中,由于ITO和Cu/Mo具有导电性高、材料成本低、对图形响应好等优点而得到广泛的应用。在TET-TCD的生产过程中,可控的精准刻蚀是一个非常重要的处理单元,一般要求刻蚀后薄膜锥角应在40°～60°之间,否则将造成产品不合格。目前,常用的ITO刻蚀液主要是由硫酸、硝酸和乙酸组成,Cu/Mo刻蚀液以双氧水和硫酸体系为主。不同薄膜及复合金属层的不同厚度均会增加准确控制刻蚀速率的难度。因此,开发性能优异的刻蚀液对ITO、Cu、Mo等金属薄膜片的生产具有重要意义。本实验通过相关的表征方法和电化学测试的方法,探究ITO、Cu、Mo在不同刻蚀液条件下腐蚀速率的变化情况,探究相应的腐蚀机理,以实现合格锥度角的稳定控制。通过控制变量法探究了单酸和混酸对ITO腐蚀结果的影响。试验结果表明,ITO刻蚀液中硫酸浓度提高更有利于锡的溶出,硝酸浓度提高更有利于铟的溶出,乙酸具有稳定酸度和缓冲溶液的作用。经过优化,最终确定ITO氧化薄膜刻蚀液的最佳配方为:硫酸（5%）、硝酸（16%）和乙酸（10%）。在金属铜和钼的腐蚀探究中,首先研究了金属铜和钼在双氧水和硫酸体系中的腐蚀速率。根据不同条件下的刻蚀结果,结合相关的XPS表征结果,发现双氧水和硫酸溶液共同存在是对金属铜和钼腐蚀的前提条件。双氧水的氧化性使金属表面形成氧化物,然后硫酸溶解金属表面的氧化物。考虑到双氧水的不稳定性,研究将硝酸代替双氧水,考察硝酸-硫酸溶液液对二种金属的刻蚀特性,发现硝酸与硫酸组成的刻蚀液能够高效稳定地对Cu/Mo薄膜刻蚀。在此基础上,对Cu/Mo复合金属层薄膜进行了刻蚀研究。通过调节刻蚀液不同组份的浓度来控制金属薄膜的腐蚀速率,以实现Cu/Mo薄膜的有效刻蚀。经过优化实验研究发现,双氧水/硫酸体系较优的配方为:双氧水5%～11%,硫酸1%～7%,磷酸二氢铵0.5%～2%,添加剂PSP 0.3%～1%范围值内。硝酸/硫酸体系的较优配方为:硝酸1%～7%,硫酸25%～35%,添加剂PSP 0.5%～2%范围内。优化后的二种刻蚀液均能使Cu/Mo玻璃基片腐蚀锥度角能够控制在要求范围之内。两者对比发现双氧水体系比硝酸体系刻蚀后的基板平面更干净无杂质粒子残留,而硝酸/硫酸体系刻蚀液更稳定便于保存。
刘晓源[5]（2020）在《TFT-LCD的驱动电路设计与面板缺陷检测》文中认为近年来TFT-LCD在显示行业中迅速崛起,在市场中占有极大的份额。而液晶面板在生产过程中容易出现各种各样的缺陷,出厂前都必须进行相关检测来确保产品的质量。本文针对分辨率为1920×1080的TFT-LCD实验模组,通过研究其结构、特性和驱动原理,设计出信号驱动电路和背光驱动电路,用设计的电路将实验模组成功点亮并进行相关缺陷检测。本次实验模组采用的是LVDS信号接口设计,其工作电压为5V,支持30MHz到170MHz的频率,由FPGA编程来控制,程序在编译仿真以后,被下载到芯片当中,用一个转换电路来完成芯片上电压的转换。背光源部分除了需要为其提供一个将灯管点亮的启动电压外,对正常工作时的工作电压也有要求。这个电压转化器在启动时,需为信号提供一个5V的直流电压,为背板提供一个12V的直流电压,还需要一个可以调节电压值大小的电压,通过对该电压值的调节从而改变灯管的明暗程度。TFT-LCD模组的缺陷检测,是TFT-LCD制造过程中的重要环节。本文以分辨率为1920×1080的显示面板为基础,通过对实验面板的深入研究,完成了驱动电路设计、测试项目设计、具体缺陷分析等工作后,针对缺陷的种类、检测方式及产生原因,提出了完整的检测流程,特别是对生产中遇到的常规和非常规缺陷加以分类,从而使产品的缺陷检测更加精确,最终达到改善产线、提高产品良品率的目的。本文主要对TFT-LCD实验模组进行画质、光学、电气、机械和可靠度5个方面的检测,并对检测流程进行详细的分析介绍,且对部分缺陷提出改进方法。
曹向荣[6]（2020）在《生命周期视角下的京东方成长期财务战略研究》文中进行了进一步梳理中国消费电子产业曾经处于“缺芯少屏”状态,行业认知一直是“要想发展高新技术只能通过引进而不是自主创新”,在这一关键环节,京东方作为这个行业的带头者,突破了国外对TFT-LCD工业技术的掌控,以自己独特的经营管理方式开创了属于我国的电子液晶显示屏时代。在研究京东方战略的过程中发现,其总体战略的制定是有一定成效的。而财务战略是总体战略中非常重要的一部分,研究其财务战略不仅有助于发现并帮助京东方解决自身存在的问题,而且能为类似企业实现更好更快的发展提供一定的经验借鉴;而生命周期视角可以帮助更好地研究财务战略,因为其可以从静态和动态两个角度对企业的财务状况进行分析,并且能对不同阶段的财务战略进行比较。因此,本文选择基于企业的生命周期视角,运用销售收入增长率法和现金流组合法来判断企业的生命周期,判断得出企业处于成长期,并从投资、筹资、股利分配三方面结合财务战略矩阵分析方法对企业的财务战略进行了分析,发现京东方在反行业周期进行逆势扩张中存在现金流严重不足,盈利能力较差等问题,这些问题的形成与企业收到大量的财政补助,并且主要依靠向地方政府的融资平台定向增发股份和长期借款来维持企业的净利润有关,针对这些问题,本文提出了一定的优化建议。最后,通过研究发现,京东方成长期制定的总体战略和财务战略对其他企业有一定借鉴意义,但是财务战略中的一些具体战略却存在一定的问题,因此,京东方还应对其财务战略进行适度调整。
王晓敏[7]（2020）在《针对液晶面板行业固化炉改造与参数监控系统研究》文中提出作为一种新兴的高科技产品,薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display）在许多行业都有着广泛的应用。随着人们对液晶面板要求的不断提高,其相关技术也有了一定程度的发展,而目前制约液晶面板发展的重要难题之一就是异物不良现象。基于此,本文针对Oven凝结物的产生机理进行分析,并对相关设备进行了改良,旨在通过创建新型参数监控系统,实现对已改造后的参数进行及时有效的监控,从而达到及时发现异物风险并及时改善的目的。本文首先针对TFT-LCD的发展历程进行了介绍,说明了固化炉控制系统的国内外研究现状及不同方法的优缺点;其次,介绍了 CF段（Color Filter）良率的影响因素及异物的产生机理,确定了 Oven光阻固化炉异物常规监控反馈机制,并选用FDC系统作为固化炉异常原因的分析工具;最后,结合现有的工业大数据概念和实际的生产状况,针对性的提出了一种基于MES（Manufacturing Execution System）技术改造的经济型方案,并设计了监控系统基本的结构和参数监控系统方案的各个模块,主要包括:数据获取模块、数据处理模块、设计预定准则、数据管控模块及参数监控系统验证模块。为验证系统的有效性,本文通过极限学习机针对光阻固化炉的炉温实现了快速准确的建模仿真,仿真结果表明:模型的预测温度与实际的温度基本一致,改进后的系统可以很好地实现炉内各项参数的调控,对于工业中的控制器设计、固化炉结构优化设计具有很重要的应用和参考价值。针对光阻固化炉参数的监控能够大大降低设备的异常,从而提高设备在CF段的清洁程度,使排气管路的温度保持在相对稳定的状态,进而大大提升产品的良率,本文为固化炉的改造和参数的监控提供一条新的思路。
吴云飞[8]（2019）在《液晶面板行业Cell膜下异物的控制及监控方法研究》文中研究说明薄膜液晶显示器TFT-LCD因体积小、耗电量低、重量轻、美观等诸多优点,是新兴的高新技术产业,已得到广泛关注和研究。由于便携式计算机、办公室应用程序和大屏幕显示器的普及使用,人们对于显示器的质量具有更高的要求。作为TFT-LCD行业的第一大不良:异物不良,对产品品质的影响约占95%,与企业效益直接相关。目前行业内的异物反馈机制是利用VT&ET检出情况,对异物进行分类,通过小比例异物样品拆片解析,从而得到异物分类,异物判责的效果,但是反馈周期较长,从而发现问题和改善问题的周期相应变长。新型TFT—LCD行业Cell膜下异物监控与反馈系统,是充分结合现有检测资源:各工艺段的AOI的异物形态及位置图片检测数据和后段VT/ET不良检测位置和异物形态数据,利用工厂MES自动化数据整合处理系统串接,实现后段不良信息快速反馈匹配至前段相应工艺段的功能,达到及时监控反馈,并传达到具体工程段精细化管控的良性异物监控处理模式。本文主要通过分析Cell膜下异物不良的分类和机理,对Cell异物进行控制。同时创建新型Cell膜下异物监控系统,对已改善后的Cell异物水平进行及时有效的监控,达到及时发现异物风险,及时改善的目的。它可以有效缓解繁琐的异物解析分析模式的压力,通过信息比对确认发生单位点,有效反馈工艺段,增加工程的改善积极性;同时可以匹配AOI与后段检出关系,及时调整AOI检测有效性,准确性。便于相关工艺段进行改善对策初步评估,减少资源浪费。通过对TFT—LCD制作流程中异物的影响及传统分析方法的不足进行分析,并结合实际生产经验,探索出一套以位置匹配为基础,充分的利用光学检查机检测数据的异物管控的新型异物监控反馈系统,反馈速度由原来的2周缩短至2小时,同时亦提高了工程改善的积极性及改善效率,最终实现异物管控,所有产品波动控制在1%内,为异物的分析与改善提供了新的思路。新系统已经在本厂通过自动信息化的方式建立相对完善的监控反馈机制,相信未来对于建立智能化工厂会发挥更大的作用。
罗帅[9]（2019）在《PS段差的生产优化研究》文中认为为了满足人们对显示器的色彩和显示实用性的更高需求,TFT-LCD制造行业涌现了大量的新技术,如COA（Color Filter on Array）、POA（Photo Spacer on Array）等。其中,隔垫物（Photo Spacer,PS）段差是COA和POA等新技术的关键特性,对这些新技术有着决定性影响。目前,韩国和日本对这一特性研究较多,研究发现PS段差主要由光刻胶特性、光罩设计和曝光机生产条件决定。由于中国对这一领域的探索起步较晚,再加上日本、韩国等国家的技术封锁,我国在TFT-LCD制造技术各方面发展较慢,前期主要以生产低端的传统TFT-LCD产品为主,涉及COA和POA技术研究的企业很少。近年来,在政府的大力扶持下,TFT-LCD行业快速发展,生产工艺和技术渐渐开始迈向高端技术行列,京东方（BOE）和华星光电（CSOT）等企业开始进行COA和POA技术的研究和探索。在COA、POA等产品开发过程中,由于光罩设计和生产制程条件无法有效匹配,需要花很长的时间、大量的人力和物力进行多次生产实验,才能调整出适合量产的PS段差。故而生产出合适的PS段差成为了生产中的一个重大难题。PS段差的生产优化研究,能够帮助我们找出PS段差生产规律,对国内TFT-LCD制造厂家进军COA、POA等技术领域具有重大指导意义。本文通过理论推断和生产实验验证,确认了PS段差的影响因子及作用规律,然后通过各因子的交互实验分析建立了PS段差数据库。在产品导入阶段运用此数据库进行产品设计,并通过生产实验进行了完善和优化,能够快速有效的实现适合量产需求的PS段差。考虑到PS段差的重要性,文章进一步讨论和研究了PS段差生产改善,分别从制程条件选定、段差偏高偏低和均一性改善进行了阐述,为TFT-LCD制造行业进一步优化PS段差生产提供了理论支持和实践依据。本课题研究的主要成果如下:（1）建立和完善了PS掩膜版设计规范,得到了合适的生产条件,使得PS制程首次制作时间缩短24.6小时,产品开发周期缩短了7.6天。（2）通过预烘烤温度的调整,进一步优化了PS生产条件,产线生产节拍提升1.5秒,为企业新增年效益363万元。（3）通过多个制程参数搭配调整提升了制程的调整空间,延长了曝光片数,使得生产效率从68%提升至79%以上。
常青[10]（2019）在《TFT-LCD窄边框手机显示屏的关键技术研究》文中进行了进一步梳理Thin film transistor-liquid crystal display（TFT-LCD）is widely used in human lives,for example television,computer,automobile navigation,dash board and so on,especially in the field of mobile phone display.Because of the portable application of mobile phone and its extensive penetration in life,people’s sensory requirements for mobile phone display screen are becoming more and more strict,especially the demand for narrow boarder display.However the coating width and coating relative position of the sealant have certain limitations in traditional TFT-LCD process.The sealant width cannot be narrowed and the position of the sealant can be shifted inwards without limit,or it will cause quality problems of the display screen.It is true that cutting on sealant can narrow the border width of mobile phone display screen with 0.2 mm for each side.But with normal wheels it cannot meet the reliability and quality requirements of mobile phone display screen from the perspective of cutting mode and section effect.Thus it does not have the feasibility for mass production.Therefore,in order to realize cutting on sealant of TFT-LCD,this paper mainly studies the narrow boarder display of mobile phone in TFT-LCD from two key technical directions: cutting wheel selection and black matrix laser burning.Research about different cutting wheels down-selection on sealant.The key technical parameters of the cutting wheel are: cutter tooth shape,diameter（including inner diameter and outer diameter）,cutter wheel angle,Pitch number and cutter tooth depth.Common cutting-assisted process measures include: standing,special equipment for break,heating,ultrasonic,etc.This study selects the cutting-assisted process and the cutting wheel types for the on-sealant cutting process.Though the auxiliary measures improve the bending strength of conventional cutting process,it has been found through experiments that it helps a little on the on-sealant cutting process.In the study of the cutting wheel types for the on-sealant cutting process,there are 8 cutting wheels with different technical parameters were selected for testing.The pressure correction test was carried out one by one for each of the 8 cutting wheels,and the optimal set of pressure transverse direction was selected to compare with other remaining cutter wheels.The contrast items were: Rib mark penetration,section tooth retention and compression breaking effect.At the same time,quality reliability evaluation that includes PCT test,Peel Off test and Bending test is combined with the above results to select a tool wheel that meets the requirements.Research on on-sealant cutting of black matrix laser burning.In the existing design of the test product,on the basis of changing the sealant coating,it is still necessary to avoid the overlap of the PI coating and the sealant.The test samples are tested at the laser vendor to select the size of the spot and the number of scans.Finally the on-sealant cutting is performed using a conventional cutter wheel on the laser-shaping product.Through the comparison of various process indicators and reliability indicators including PCT test and Peel Off test and Bending test,it is concluded that the quality gap between the conventional cutting wheel cutting and the non-slip cutting products of the black matrix laser shaping rubber cutting products is different.In conclusion,by studying the selection of different cutter wheels for gel-cutting and applying them to the black matrix laser shaping,this paper finally realizes the gel-cutting of TFT-LCD with high quality and narrow borader,which lays a research foundation for the mass production of high-quality mobile phone display screens in the future.
二、TFT LCD行业标准的探讨（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、TFT LCD行业标准的探讨（论文提纲范文）
（1）多背景环境下TFT-LCD视觉缺陷检测算法研究与应用（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题来源 |
| 1.2 研究背景 |
| 1.3 TFT-LCD缺陷检测研究现状与分析 |
| 1.3.1 缺陷图像的预处理 |
| 1.3.2 传统的检测方法 |
| 1.3.3 基于深度学习的缺陷检测方法 |
| 1.4 主要研究内容 |
| 1.4.1 论文主要研究内容 |
| 1.4.2 论文结构安排 |
| 第2章 TFT-LCD缺陷检测方案设计及图像预处理 |
| 2.1 TFT-LCD结构、显示原理及制造工艺 |
| 2.2 TFT-LCD显示面板缺陷检测方案 |
| 2.3 TFT-LCD显示面板图像的预处理 |
| 2.3.1 多帧图像求平均 |
| 2.3.2 高斯算子滤波 |
| 2.3.3 伽马变换 |
| 2.3.4 直方图均衡 |
| 2.4 图像预处理结果分析 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 多背景环境下TFT-LCD缺陷视觉检测方法 |
| 3.1 TFT-LCD Mura和划痕缺陷检测方法 |
| 3.1.1 TFT-LCD Mura和划痕缺陷检测方法原理 |
| 3.1.2 TFT-LCD Mura和划痕缺陷检测方法实验验证与分析 |
| 3.2 TFT-LCD边缘缺陷检测方法 |
| 3.2.1 TFT-LCD边缘缺陷检测方法原理 |
| 3.2.2 TFT-LCD边缘缺陷检测方法实验验证与分析 |
| 3.3 TFT-LCD色阶误差缺陷检测方法 |
| 3.3.1 TFT-LCD色阶误差缺陷检测方法原理 |
| 3.3.2 TFT-LCD色阶误差缺陷检测方法实验验证与分析 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 基于深度学习的TFT-LCD spot Mura缺陷检测方法 |
| 4.1 基于深度学习的目标检测算法 |
| 4.1.1 目标检测算法的原理 |
| 4.1.2 目标检测对象的特征分析 |
| 4.2 不同目标检测算法的比较 |
| 4.2.1 基于锚框的目标检测算法 |
| 4.2.2 无锚框目标检测算法 |
| 4.3 实验结果比较 |
| 4.3.1 实验前准备 |
| 4.3.2 实验过程 |
| 4.3.3 实验结果分析 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 TFT-LCD缺陷视觉检测系统及应用 |
| 5.1 TFT-LCD视觉缺陷检测硬件设计 |
| 5.2 实验平台电气控制 |
| 5.3 缺陷视觉检测算法在实验平台中的实现 |
| 5.3.1 软件开发平台简介 |
| 5.3.2 算法模型集成与界面设计 |
| 5.3.3 软件测试结果分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 第6章 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录A 攻读硕士学位期间获得的科研成果 |
（2）TFT LCD亮点缺陷改善研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 研究背景 |
| 1.3 液晶显示器的发展 |
| 1.4 TFT LCD面板的结构 |
| 1.5 研究意义 |
| 1.6 本论文研究内容 |
| 第二章 TFT LCD生产工艺及亮点发生原因分析 |
| 2.1 阵列工艺流程 |
| 2.1.1 GE工艺流程 |
| 2.1.2 AS、SE工艺流程 |
| 2.1.3 PV、ITO工艺流程 |
| 2.2 彩膜工艺流程 |
| 2.2.1 BM工艺流程介绍 |
| 2.2.2 RGB工艺流程介绍 |
| 2.2.3 PS、彩膜ITO工艺流程介绍 |
| 2.3 成盒工艺流程 |
| 2.3.1 配向膜喷印工艺 |
| 2.3.2 组立工艺 |
| 2.3.3 光配向工艺 |
| 2.3.4 切割和偏贴工艺 |
| 2.3.5 端子切割和包装工艺 |
| 2.4 亮点的检查和成因 |
| 2.4.1 亮点的检查 |
| 2.4.2 形成亮点的机理 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 亮点的分析和制程改善研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 亮点不良的分析方法 |
| 3.2.1 亮点不良的制程分析方法 |
| 3.2.2 亮点不良的解析方法 |
| 3.3 阵列制程亮点的改善 |
| 3.3.1 曝光制程亮点改善 |
| 3.3.2 PVD制程亮点改善 |
| 3.4 成盒制程亮点的改善 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 亮点检出率提升及亮点的维修 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 亮点的检出率提升 |
| 4.2.1 亮点漏检原因分析 |
| 4.2.2 亮点漏检改善 |
| 4.3 亮点的维修 |
| 4.3.1 亮点维修的机理 |
| 4.3.2 成盒激光修补机修补原理介绍 |
| 4.3.3 异物暗的问题 |
| 4.3.4 电压差造成亮点修补失败的问题 |
| 4.3.5 阵列长线修补造成的亮点问题 |
| 4.4 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 附件 |
（3）联盟组合网络特征、组织学习与企业创新能力关系研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.1.1 现实背景 |
| 1.1.2 理论背景 |
| 1.2 研究问题 |
| 1.3 研究思路与方法 |
| 1.3.1 研究目的 |
| 1.3.2 关键概念界定 |
| 1.3.3 技术路线 |
| 1.3.4 研究方法 |
| 1.4 内容安排 |
| 1.5 主要创新点 |
| 1.6 本章小结 |
| 第二章 文献综述 |
| 2.1 联盟组合相关研究综述 |
| 2.1.1 联盟组合的内涵 |
| 2.1.2 联盟组合的成因 |
| 2.1.3 联盟组合网络特征 |
| 2.1.4 联盟组合网络特征与企业创新的关系 |
| 2.2 组织学习相关研究综述 |
| 2.2.1 探索性学习与利用性学习的内涵与测度 |
| 2.2.2 联盟网络与探索性学习和利用性学习的关系 |
| 2.3 环境动态性和技术战略导向相关研究综述 |
| 2.3.1 环境动态性 |
| 2.3.2 技术战略导向 |
| 2.4 研究评述 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 概念模型与研究假设 |
| 3.1 联盟组合网络特征变量选择 |
| 3.2 概念模型构建 |
| 3.2.1 联盟组合网络特征对企业创新能力的作用机理 |
| 3.2.2 联盟组合网络特征影响企业创新能力的路径分析 |
| 3.2.3 联盟组合网络特征影响企业创新能力的情景条件 |
| 3.3 联盟组合网络特征与企业创新能力的关系假设 |
| 3.3.1 伙伴多样性与企业创新能力的关系 |
| 3.3.2 联结强度与企业创新能力的关系 |
| 3.3.3 网络规模与企业创新能力的关系 |
| 3.4 组织学习的中介作用假设 |
| 3.4.1 伙伴多样性与组织学习的关系 |
| 3.4.2 联结强度与组织学习的关系 |
| 3.4.3 网络规模与组织学习的关系 |
| 3.4.4 组织学习与企业创新能力的关系 |
| 3.5 环境动态性和技术战略导向的调节作用假设 |
| 3.5.1 环境动态性的调节作用 |
| 3.5.2 技术战略导向的调节作用 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 研究设计与方法 |
| 4.1 问卷设计 |
| 4.1.1 问卷设计原则 |
| 4.1.2 问卷设计过程 |
| 4.1.3 问卷防偏措施 |
| 4.2 变量测量 |
| 4.2.1 自变量 |
| 4.2.2 中介变量 |
| 4.2.3 调节变量 |
| 4.2.4 因变量 |
| 4.2.5 控制变量 |
| 4.3 预调研 |
| 4.3.1 预调研分析方法 |
| 4.3.2 预调研数据收集 |
| 4.3.3 预调研数据分析 |
| 4.3.4 问卷定稿 |
| 4.4 数据收集 |
| 4.4.1 样本选择与问卷发放 |
| 4.4.2 样本特征描述 |
| 4.5 数据分析方法 |
| 4.5.1 信度与效度检验 |
| 4.5.2 相关性分析 |
| 4.5.3 结构方程模型 |
| 4.5.4 多元回归分析 |
| 4.6 本章小结 |
| 第五章 数据分析与结果讨论 |
| 5.1 变量的信度和效度检验 |
| 5.1.1 信度检验 |
| 5.1.2 效度检验 |
| 5.2 组织学习中介作用的结构方程模型检验 |
| 5.2.1 初步数据分析 |
| 5.2.2 自变量对因变量的影响分析 |
| 5.2.3 自变量对中介变量的影响分析 |
| 5.2.4 中介变量对因变量的影响分析 |
| 5.2.5 中介变量间的影响分析 |
| 5.2.6 整体模型的拟合与参数估计 |
| 5.2.7 中介作用的验证与效应分解 |
| 5.3 环境动态性与技术战略导向调节效应的多元回归分析检验 |
| 5.3.1 相关性分析 |
| 5.3.2 回归三大问题检验 |
| 5.3.3 回归分析结果 |
| 5.4 结果与讨论 |
| 5.4.1 实证研究结果汇总 |
| 5.4.2 联盟组合网络特征与企业创新能力关系讨论 |
| 5.4.3 组织学习的中介作用讨论 |
| 5.4.4 环境动态性与技术战略导向的调节作用讨论 |
| 5.5 本章小结 |
| 第六章 联盟组合网络特征与企业创新能力动态演化案例研究 |
| 6.1 案例研究背景 |
| 6.1.1 二次创新相关研究 |
| 6.1.2 新型平板显示行业发展现状 |
| 6.2 案例分析框架 |
| 6.3 研究设计与方法 |
| 6.3.1 案例研究方法 |
| 6.3.2 案例企业选择 |
| 6.3.3 数据收集 |
| 6.3.4 构念测度 |
| 6.3.5 信度与效度保证 |
| 6.4 案例分析 |
| 6.4.1 京东方二次创新第一时期(1993-2000年) |
| 6.4.2 京东方二次创新第二时期(2001-2010年) |
| 6.4.3 京东方二次创新第三时期(2011-2019年) |
| 6.5 案例讨论 |
| 6.5.1 组织学习平衡与联盟组合网络特征不匹配对创新能力的影响 |
| 6.5.2 组织学习平衡与联盟组合网络特征动态匹配对创新能力的影响 |
| 6.6 本章小结 |
| 第七章 研究结论与展望 |
| 7.1 研究结论 |
| 7.2 理论贡献与实践启示 |
| 7.2.1 理论贡献 |
| 7.2.2 实践启示 |
| 7.3 研究展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录一 |
| 附录二 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 |
（4）TFT-LCD行业ITO和Cu/Mo薄膜刻蚀液性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 选题意义及背景 |
| 1.2 液晶显示简介 |
| 1.2.1 薄膜晶体管液晶显示器基本构造 |
| 1.2.2 液晶显示器显色原理 |
| 1.2.3 液晶显示器制造工艺简述 |
| 1.3 彩色滤光片简介 |
| 1.4 湿电子化学品在TFT-LCD制造中的应用概述 |
| 1.4.1 湿电子化学品简介 |
| 1.4.2 湿电子化学品在TFT阵列制造中的作用 |
| 1.5 本文研究的目的及安排 |
| 第二章 实验部分 |
| 2.1 实验试剂与仪器 |
| 2.1.1 实验试剂 |
| 2.1.2 实验仪器 |
| 2.2 ITO腐蚀实验方法 |
| 2.2.1 ITO离子腐蚀溶出实验 |
| 2.2.2 铟离子浓度测定 |
| 2.2.3 锡离子浓度测定 |
| 2.2.4 电阻法估算ITO刻蚀速率 |
| 2.2.5 扫描电子显微镜(SEM) |
| 2.3 金属Cu腐蚀实验方法 |
| 2.3.1 金属Cu离子腐蚀溶出实验 |
| 2.3.2 金属Cu离子浓度测定 |
| 2.3.3 金属Cu腐蚀电化学测试实验 |
| 2.4 金属Mo腐蚀实验方法 |
| 2.4.1 金属Mo离子腐蚀溶出实验 |
| 2.4.2 金属Mo离子浓度测定 |
| 2.4.3 金属Mo腐蚀电化学测试实验 |
| 2.5 Cu/Mo金属薄膜玻璃基板材料的表征 |
| 2.5.1 扫描电子显微镜(SEM) |
| 2.5.2 X射线光电子能谱(XPS) |
| 第三章 ITO腐蚀研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 ITO腐蚀实验方案及目标 |
| 3.3 实验结果与讨论 |
| 3.3.1 实验结果与分析 |
| 3.3.2 硫酸、乙酸和硫酸、硝酸二元酸实验结果及分析 |
| 3.3.3 硫酸、硝酸和乙酸三元混酸实验结果与分析 |
| 3.3.4 电阻法估算腐蚀速率的结果与分析 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 金属铜腐蚀研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 金属Cu腐蚀实验方案及目标 |
| 4.3 实验结果与讨论 |
| 4.3.1 双氧水稳定剂的初步探讨 |
| 4.3.2 金属铜的腐蚀实验结果与讨论 |
| 4.3.3 金属铜腐蚀电化学实验结果及分析 |
| 4.3.4 以硫酸为基础酸对金属铜的电化学实验探究 |
| 4.3.5 硫酸和硝酸对金属铜实验探究 |
| 4.3.6 金属铜的腐蚀机理研究 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 金属钼腐蚀研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 金属Mo腐蚀实验方案及目标 |
| 5.3 实验结果与讨论 |
| 5.3.1 金属钼腐蚀的实验结果及分析 |
| 5.3.2 硝酸代替双氧水对Mo腐蚀的影响 |
| 5.3.3 金属钼的腐蚀机理 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 铜/钼复合金属层腐蚀研究 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 研究方案及目标 |
| 6.3 实验结果与讨论 |
| 6.3.1 铜/钼复合金属时间-电流(i-t)曲线 |
| 6.3.2 刻蚀液对Cu/Mo玻璃样片的刻蚀表征 |
| 6.4 本章小结 |
| 第七章 结论与展望 |
| 7.1 结论 |
| 7.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简介 |
| 1 作者简历 |
| 2 攻读硕士学位论文期间获得学术成果 |
| 学位论文数据集 |
（5）TFT-LCD的驱动电路设计与面板缺陷检测（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 项目背景 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.3 项目研究的意义 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 |
| 第2章 TFT-LCD结构和工作原理 |
| 2.1 TFT-LCD的结构 |
| 2.2 TFT-LCD驱动系统 |
| 2.3 TFT-LCD背光光源 |
| 2.4 本章小结 |
| 第3章 TFT-LCD驱动原理 |
| 3.1 液晶的分类和特性 |
| 3.1.1 液晶的分类 |
| 3.1.2 液晶的光学特性 |
| 3.1.3 液晶显示的基本原理 |
| 3.2 TFT-LCD像素驱动原理 |
| 3.2.1 有源驱动 |
| 3.2.2 TFT结构与像素驱动 |
| 3.3 LVDS接口电路设计 |
| 3.3.1 LVDS接口原理 |
| 3.3.2 LVDS接口的电路设计 |
| 3.4 背光源逆变器控制电路 |
| 3.4.1 冷阴极灯管的发光原理 |
| 3.4.2 背光源逆变器特点 |
| 3.4.3 背光源逆变器设计 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 TFT-LCD需检测的项目 |
| 4.1 画质方面 |
| 4.1.1 Flicker |
| 4.1.2 残影 |
| 4.1.3 Mura |
| 4.1.4 点缺陷和线缺陷 |
| 4.2 电气特性方面 |
| 4.2.1 EMC(电磁兼容性) |
| 4.2.2 驱动电压V_(DD) |
| 4.2.3 其他电气特性 |
| 4.3 光学特性 |
| 4.3.1 色度 |
| 4.3.2 亮度和亮度均齐度 |
| 4.3.3 对比度 |
| 4.3.4 视角 |
| 4.3.5 响应时间 |
| 4.4 可靠度实验 |
| 4.5 机械特性 |
| 4.5.1 冲击实验 |
| 4.5.2 压力测试 |
| 4.5.3 拉力测试 |
| 4.5.4 震动测试 |
| 4.6 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 个人简介 |
（6）生命周期视角下的京东方成长期财务战略研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.1.1 研究背景 |
| 1.1.2 研究意义 |
| 1.2 文献综述 |
| 1.2.1 企业生命周期理论文献综述 |
| 1.2.2 财务战略理论文献综述 |
| 1.2.3 基于企业生命周期的财务战略应用文献综述 |
| 1.2.4 文献述评 |
| 1.3 研究内容 |
| 1.4 研究方法 |
| 2 相关概念与分析方法 |
| 2.1 生命周期 |
| 2.1.1 行业生命周期 |
| 2.1.2 企业生命周期 |
| 2.2 财务战略 |
| 2.2.1 财务战略的概念界定 |
| 2.2.2 财务战略的特征 |
| 2.2.3 财务战略的分类 |
| 2.2.4 基于企业生命周期的财务战略选择 |
| 2.3 分析方法 |
| 2.3.1 企业生命周期阶段划分方法 |
| 2.3.2 财务战略矩阵分析方法 |
| 3 京东方生命周期划分及财务战略影响因素分析 |
| 3.1 京东方公司简介 |
| 3.2 京东方生命周期阶段界定 |
| 3.2.1 基于现金流组合法的京东方生命周期划分 |
| 3.2.2 基于销售收入增长率法的京东方生命周期划分 |
| 3.3 京东方财务战略选择考虑的因素 |
| 3.3.1 国家政策 |
| 3.3.2 行业生命周期 |
| 3.3.3 总体战略 |
| 3.3.4 组织结构 |
| 3.3.5 核心竞争力 |
| 4 京东方成长期财务战略现状及矩阵分析 |
| 4.1 投资战略现状:反行业周期逆势扩张投资 |
| 4.2 筹资战略现状:以定向增发股份和政府补助为主 |
| 4.3 股利分配战略现状:低现金股利战略 |
| 4.4 京东方财务战略矩阵分析 |
| 4.4.1 可持续增长率分析 |
| 4.4.2 经济增加值(EVA)分析 |
| 4.4.3 京东方财务战略矩阵分析 |
| 5 京东方成长期财务战略存在的问题及成因分析 |
| 5.1 投资战略存在的问题及成因分析 |
| 5.1.1 盈利能力差,成本费用较高 |
| 5.1.2 净利润质量差,过分依赖政府补助 |
| 5.2 筹资战略存在的问题及成因分析 |
| 5.2.1 融资来源较单一 |
| 5.2.2 定向增发导致利益输送和企业寻租成为可能 |
| 5.3 股利分配战略存在的问题及成因分析 |
| 6 京东方成长期财务战略优化建议 |
| 6.1 投资战略优化建议 |
| 6.1.1 正确确定研发项目,进行多元化投资 |
| 6.1.2 降低成本费用,提高资本利用率 |
| 6.2 筹资战略优化建议 |
| 6.2.1 拓宽筹资渠道,优化融资结构 |
| 6.2.2 合理制定定增股价,提高资金利用率 |
| 6.3 股利分配战略优化建议 |
| 6.3.1 采取剩余股利分配政策 |
| 6.3.2 完善财务绩效评价机制 |
| 7 研究结论与展望 |
| 7.1 主要结论 |
| 7.2 不足与展望 |
| 参考文献 |
| 后记 |
（7）针对液晶面板行业固化炉改造与参数监控系统研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 TFT-LCD概述 |
| 1.1.1 TF-LCD发展历程及应用现状 |
| 1.1.2 TF-LCD发展存在的问题 |
| 1.1.3 TF-LCD制程概述 |
| 1.2 课题来源及研究背景 |
| 1.3 国内外研究现状 |
| 1.3.1 TF-LCD制造系统的研究现状 |
| 1.3.2 固化炉控制系统国内外研究现状 |
| 1.3.3 TF-LCD行业发展策略 |
| 1.4 本文主要研究内容及意义 |
| 1.4.1 研究内容 |
| 1.4.2 研究意义 |
| 1.5 本文组织结构 |
| 第二章 固化炉异物形成机理及其调控关键技术 |
| 2.1 TF-LCD制作过程的异物概述 |
| 2.2 CF段异物的产生机理和良率的影响因素 |
| 2.2.1 CF段异物的产生机理 |
| 2.2.2 CF段异物的良率影响因素 |
| 2.3 固化炉异物常规监控反馈机制 |
| 2.3.1 新型异物监控系统概述 |
| 2.3.2 Oven固化炉凝结物监控机制 |
| 2.3.3 Oven固化炉改造前凝结物的管控方式 |
| 2.4 异物监控反馈机制调控的关键技术 |
| 2.4.1 FDC功能概述 |
| 2.4.2 FDC监控异物功能实现 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 监控系统结构与实现 |
| 3.1 监控系统结构方案及设计 |
| 3.1.1 Oven炉参数监控系统方案需求分析 |
| 3.1.2 参数监控系统方案设计 |
| 3.2 监控系统各模块设计 |
| 3.2.1 数据获取的设计 |
| 3.2.2 数据处理的设计 |
| 3.2.3 设计预定规则 |
| 3.2.4 数据管控的设计 |
| 3.2.5 状态监测 |
| 3.2.6 数据分析 |
| 3.3 参数监控系统的验证 |
| 3.4 液晶面板行业固化炉温度场模型 |
| 3.4.1 问题描述 |
| 3.4.2 建模和控制 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 固化炉参数监控效果分析 |
| 4.1 固化炉炉温建模方法 |
| 4.2 排气管温度与缺陷数量的关系 |
| 4.3 监控参数对良率的影响 |
| 4.3.1 监控参数改善前后良率的变化 |
| 4.3.2 CF段设备清洁度对比 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 结论与展望 |
| 5.1 结论 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（8）液晶面板行业Cell膜下异物的控制及监控方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 课题研究背景 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 显示技术发展及行业动态 |
| 1.2.2 TFT-LCD国内外研究现状 |
| 1.3 课题的来源及研究意义 |
| 1.4 本课题的研究内容 |
| 第二章 TFT-LCD制程工艺及生产要求及膜下异物控制 |
| 2.1 TFT-LCD主要制程 |
| 2.2 TFT-LCD Cell膜结构及生产要求 |
| 2.2.1 Cell膜组结构 |
| 2.2.2 Cell膜组的组成 |
| 2.2.3 Cell模生产工艺以及环境要求 |
| 2.2.4 Cell段生产流程分析 |
| 2.3 PI(聚酰亚胺)膜下异物的控制 |
| 2.3.1 AOI检测作用及原理 |
| 2.3.2 异物不良分类 |
| 2.3.3 异物发生源头分析 |
| 2.3.4 异物改善研究 |
| 第三章 Cell膜异物监控反馈系统 |
| 3.1 常规Cell异物监控思路及弊端 |
| 3.2 新型AOI异物监控反馈系统 |
| 3.2.1 新型AOI异物监控反馈系统模型构思 |
| 3.2.2 新型异物监控系统的缺陷的类型和特征分析 |
| 3.2.3 新型异物监控系统AOI控制模块 |
| 3.2.4 PC数据传输 |
| 3.2.5 AOI身份验证系统-EAP协议 |
| 3.3 AOI与 MES系统集成 |
| 3.3.1 企业MES系统简介 |
| 3.3.2 基于AOI集成的MES架构设计 |
| 3.4 AOI数据分析:Minitab分析工具 |
| 3.5 系统E-Mail数据输出模块 |
| 第四章 Cell膜异物监控反馈系统监控结果分析及反馈 |
| 4.1 系统识别率分析 |
| 4.2 背光异物形态及大小分布 |
| 4.3 测试各膜层详细不良记录 |
| 4.4 异物监控系统输出结果 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（9）PS段差的生产优化研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 选题背景 |
| 1.2 PS段差概念和国内外研究现状 |
| 1.2.1 PS段差概念 |
| 1.2.2 国内外研究现状 |
| 1.3 PS段差研究意义 |
| 1.4 本文的研究内容 |
| 1.5 本文的创新点 |
| 第二章 PS段差影响因子及作用规律 |
| 2.1 PS段差形成原由的探讨 |
| 2.2 PS段差影响因子研究 |
| 2.2.1 PS段差影响因子推测 |
| 2.2.2 PS段差影响因子验证 |
| 2.3 PS段差影响因子作用规律研究 |
| 2.3.1 单因子作用规律研究 |
| 2.3.2 多因子作用规律研究 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 PS段差的生产优化 |
| 3.1 PS Mask开口设计选型 |
| 3.1.1 GTM mask开口尺寸选型 |
| 3.1.2 HTM mask开口尺寸选型 |
| 3.2 PS段差生产制程条件建议 |
| 3.3 PS段差偏高偏低改善 |
| 3.3.1 PS段差偏高改善 |
| 3.3.2 PS段差偏低改善 |
| 3.4 PS段差均一性改善 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 PS段差的生产优化成果 |
| 4.1 缩短产品开发周期 |
| 4.2 提升生产节拍 |
| 4.3 提升制程调整空间 |
| 4.4 本章小结 |
| 总结与展望 |
| 1 总结 |
| 2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 |
| 致谢 |
| 附件 |
（10）TFT-LCD窄边框手机显示屏的关键技术研究（论文提纲范文）
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 选题背景 |
| 1.2 薄膜晶体管液晶显示器简介 |
| 1.2.1 TFT-LCD的组成 |
| 1.2.2 TFT-LCD工艺的关键技术 |
| 1.2.3 TFT-LCD的显示原理 |
| 1.3 TFT-LCD显示屏窄边框研究的国内外动态 |
| 1.3.1 采用电极设计实现TFT-LCD显示屏窄边框研究 |
| 1.3.2 采用ODF液晶滴下与扩散技术实现TFT-LCD显示屏窄边框 |
| 1.3.3 采用ODF框胶涂覆技术实现TFT-LCD显示屏窄边框 |
| 1.3.4 采用MDL材料设计实现TFT-LCD显示屏窄边框 |
| 1.4 选题依据与研究内容 |
| 第二章 MDL工艺中带胶切割的技术研究 |
| 2.1 带胶切割实现TFT-LCD显示屏窄边框的工作原理 |
| 2.2 TFT-LCD显示屏不同切割方式的研究 |
| 2.2.1 激光切割 |
| 2.2.2 刀轮双面切割 |
| 2.2.3 刀轮单面切割 |
| 2.3 带胶切割工艺的全面评价方法 |
| 2.3.1 带胶切割工艺评价参数 |
| 2.3.2 带胶切割可靠性关键评价因素 |
| 2.3.2.1 弯曲测试 |
| 2.3.2.2 Peel Off测试 |
| 2.3.2.3 PCT测试 |
| 2.3.3 TFT-LCD其他可靠性评价因素 |
| 2.4 TFT-LCD显示屏窄边框工艺的局限性分析 |
| 2.4.1 ODF工艺局限性分析 |
| 2.4.2 二次切割工艺局限性分析 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 基于不同刀轮选型的带胶切割的研究 |
| 3.1 TFT-LCD刀轮切割的基本原理 |
| 3.2 TFT-LCD切割刀轮选型的理论研究 |
| 3.2.1 TFT-LCD切割刀轮的关键参数 |
| 3.2.2 带胶切割刀轮参数选型依据研究 |
| 3.2.3 TFT-LCD切割常见辅助分裂措施及其原理 |
| 3.2.4 TFT-LCD带胶切割刀轮选型结果 |
| 3.3 带胶切割对刀轮选型的研究 |
| 3.3.1 刀轮选型带胶切割测试样品准备 |
| 3.3.2 带胶切割测试样品结果汇总及分析 |
| 3.3.2.1 APIO系列刀轮实验结果及分析 |
| 3.3.2.2 新韩系列刀轮实验结果及分析 |
| 3.3.2.3 西伯尔系列刀轮实验结果及分析 |
| 3.3.3 工艺评价结果及分析 |
| 3.3.4 可靠性评价结果及分析 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 基于黑胶矩阵激光整形的带胶切割的研究 |
| 4.1 黑矩阵激光整形对实现带胶切割的理论分析 |
| 4.2 黑矩阵激光整形对带胶切割的研究 |
| 4.2.1 黑矩阵激光整形带胶切割测试样品准备 |
| 4.2.2 黑矩阵激光整形带胶切割测试 |
| 4.3 黑矩阵激光整形遇到的问题及解决办法 |
| 4.4 带胶切割测试样品结果汇总及分析 |
| 4.4.1 工艺评价结果及分析 |
| 4.4.2 可靠性评价结果及分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
四、TFT LCD行业标准的探讨（论文参考文献）
- [1]多背景环境下TFT-LCD视觉缺陷检测算法研究与应用[D]. 崔禹. 昆明理工大学, 2021
- [2]TFT LCD亮点缺陷改善研究[D]. 徐正兴. 华南理工大学, 2020(05)
- [3]联盟组合网络特征、组织学习与企业创新能力关系研究[D]. 马丽. 电子科技大学, 2020(01)
- [4]TFT-LCD行业ITO和Cu/Mo薄膜刻蚀液性能研究[D]. 李振弘. 浙江工业大学, 2020(02)
- [5]TFT-LCD的驱动电路设计与面板缺陷检测[D]. 刘晓源. 哈尔滨理工大学, 2020(02)
- [6]生命周期视角下的京东方成长期财务战略研究[D]. 曹向荣. 兰州财经大学, 2020(02)
- [7]针对液晶面板行业固化炉改造与参数监控系统研究[D]. 王晓敏. 内蒙古大学, 2020(01)
- [8]液晶面板行业Cell膜下异物的控制及监控方法研究[D]. 吴云飞. 内蒙古大学, 2019(05)
- [9]PS段差的生产优化研究[D]. 罗帅. 华南理工大学, 2019(06)
- [10]TFT-LCD窄边框手机显示屏的关键技术研究[D]. 常青. 电子科技大学, 2019(04)